二氧化硅膜的作用

• 对杂质的掩蔽作用

由于硼，磷等杂质在二氧化硅中的扩散速率比硅中慢得多，则这些杂质可利用一定厚度的二氧化硅膜作为扩散时的掩蔽膜，在需要扩散的区域，采用光刻技术。

• 对器件表面的保护和钝化作用

在硅片表面覆盖一层二氧化硅膜，将硅片表面和PN结与外界气氛隔离开来，就减弱了环境气氛对硅片表面状态的影响，从而提高了半导体器件的稳定性和可靠性，起到了钝化硅片表面的作用。

• 用于器件的电绝缘与隔离

二氧化硅具有很高的电阻率，是良好的绝缘材料，所以在硅器件中做铝引线与薄膜下面元件之间的绝缘层。还可利用二氧化硅的绝缘性能来实现集成电路各元件之间的电隔离，即介质隔离。

• 用作电容器的介质材料
• 用作MOS场效应晶体管的绝缘栅杂质

       二氧化硅膜的厚度和质量直接决定着MOS场效应晶体管的多个电参数。

• 用于其它半导体器件

   在硅光电池表面生长一层二氧化硅膜，可以有效地防止光的反射，提高光电池的转换效率和短路电流。也用于光探测器。